Guilei Wang Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond (Springer Theses) Online kf8

KF8 (Kindle Format 8), Amazon tarafından geliştirilen ve Mobipocket tabanlı bir formattır. Şirket bu formatta çok iyi çalıştı. Bu format bu şirket tarafından üretilen tüm elektronik cihazlar tarafından desteklendiğinden, bu şaşırtıcı değildir. Bu cihazlardan birine Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond (Springer Theses) indirebilirsiniz. KF8 ile çizgi roman ve bilim kurgudan ansiklopedilere ve yazarın Guilei Wang anılarına kadar her türden renkli ve zengin kompozisyonlu dijital kitaplar oluşturabilirsiniz. Biçim, sabit düzen, kenar çubukları, CSS3 biçimlendirme, belirtme çizgileri, SVG grafikleri, iç içe geçmiş tablolar dahil olmak üzere 150'den fazla farklı biçimlendirme öğesine sahiptir. Bu, bu biçimi diğer mobil cihaz markalarının kullanımı için cazip hale getirir. KF8'in yeteneklerine harika bir örnek, Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond (Springer Theses) Guilei Wang bir kitapta açılır metin kullanma yeteneğidir. Bu araç, kitap içeriğinin dinamik bileşenini sembolize eder. Kindle Panel Görünümü modu da sağlanmıştır, bu sayede Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond (Springer Theses) kitabının resimlerini yüksek çözünürlüklü grafiklerle görüntüleyebilirsiniz. Bu çizgi roman severler ya da çocuk kurgu okurları için çok yararlı bir araçtır. Özellikle günümüzde, dijital teknolojinin gelişmede geniş çapta ilerlediği zaman. Enfes bir tasarıma sahip mutfak ve diğer kitaplar için yazı tiplerini gömmek, arka plan resimlerine metin yerleştirmek, dili harfleri, dipnotları ve kenar çubuklarını kullanmak mümkündür. Formatın yaratıcıları daha az renkli, ancak daha yararlı türleri unutmadı. Ansiklopediler ve teknik literatür için çok uygun araçlar vardır. SVG, CSS3, iç içe tablolar ve dolgulu metin çerçeveleri hakkında konuşuyoruz. Herhangi bir okuyucu, ister bilim adamı ister mühendis olsun, Kindle Format 8 formatının bu özelliklerini takdir edecektir. Kindle kitap formatının geçen yıldan beri HTML5 ses ve video etiketlerinin yanı sıra geçerli tüm HTML4 etiketlerini desteklediğini ekliyoruz. Diğer üreticilerin bazı e-kitapları, desteklenenler listesinde KF8'i içerir, ancak onlarla her zaman doğru çalışmazlar. Bu, bu biçimin önemli bir eksi. Ancak gelecekte böyle bir sorun olmayacağından ve Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond (Springer Theses) KF8'in tüm elektronik kitap üreticilerine genişletileceğinden eminiz.

This thesis presents the SiGe source and drain (S/D) technology in the context of advanced CMOS, and addresses both device processing and epitaxy modelling.  As the CMOS technology roadmap calls for continuously downscaling traditional transistor structures, controlling the parasitic effects of transistors, e.g. short channel effect, parasitic resistances and capacitances is becoming increasingly difficult. The emergence of these problems sparked a technological revolution, where a transition from planar to three-dimensional (3D) transistor design occurred in the 22nm technology node.  The selective epitaxial growth (SEG) method has been used to deposit SiGe as stressor material in S/D regions to induce uniaxial strain in the channel region. The thesis investigates issues of process integration in IC production and concentrates on the key parameters of high-quality SiGe selective epitaxial growth, with a special focus on its pattern dependency behavior and on key integration issues in both 2D and 3D transistor structures, the goal being to improve future applications of SiGe SEG in advanced CMOS.